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DSI Point Plasma es un dispositivo especializado diseñado para mejorar las características de los implantes regulares y aumentar la velocidad del proceso de oseointegración. Funciona haciendo que la superficie del implante sea más hidrofílica y eliminando contaminantes hidrocarbónicos que tienden a acumularse en la superficie con el tiempo. Esta hidrofílicidad mejorada fomenta la formación de hueso en la superficie del implante, lo que conduce a una mejor oseointegración y a un tiempo de recuperación reducido. Además, la aplicación de plasma estimula las células del tejido, aumentando la circulación sanguínea y facilitando la regeneración del tejido.
La ventaja más notable de esta tecnología es que no solo limpia la superficie del implante y optimiza el procedimiento de implantación, sino que también lo hace rápidamente, completando el proceso en solo 60 segundos. Esta eficiencia significa que se puede realizar de manera espontánea sin necesidad de una planificación previa. Además, la operación se lleva a cabo sin comprometer la integridad del embalaje del implante, asegurando su esterilidad y usabilidad inmediata.
Durante el proceso de activación de implantes de plasma, se eliminan de manera efectiva los contaminantes microscópicos a base de carbono, mientras que se aumenta la energía superficial, mejorando la humectabilidad y promoviendo interacciones de proteínas y células a nivel molecular. Además, el dispositivo puede procesar dos implantes simultáneamente mientras mantiene la barrera estéril, lo que agiliza aún más el procedimiento.
Indicaciones:
Mejorando las características de los implantes regulares
Optimización del proceso de oseointegración
Haciendo que las superficies de los implantes sean más hidrofílicas
Eliminación de contaminantes hidrocarburos
Estimulación de células tisulares con plasma
Acortando los tiempos de recuperación en general
Características y beneficios:
Mejora significativamente las características del implante para un rendimiento superior.
Mejora el proceso de oseointegración, asegurando una integración exitosa con el hueso.
Convierte la superficie del implante en altamente hidrofílica, optimizando las interacciones biológicas.
Elimina los contaminantes hidrocarburos, asegurando una superficie de implante limpia y prístina.
Estimula la formación ósea directamente en la superficie del implante, favoreciendo una curación más rápida.
Utiliza energía de plasma para activar las células del tejido, promoviendo la regeneración acelerada del tejido.
Operación rápida completada en solo 60 segundos, maximizando la eficiencia.
Ofrece flexibilidad para un uso espontáneo, eliminando la necesidad de una planificación meticulosa previa.
Mantiene la integridad del embalaje del implante
Asegura la preparación inmediata del implante sin comprometer la esterilidad.
Capaz de procesar dos implantes simultáneamente, optimizando tiempo y recursos.
Compatible con cualquier marca de implante con un envase de vial estéril claro.
Características técnicas:
Modelo: Plasma Activo
Tamaño: 150 x 354 x 267mm
Pantalla: LCD IPS táctil capacitivo
Capacidad: 2 viales de implantes de hasta 65 mm de altura / 28 mm de grosor
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DSI Point Plasma es un dispositivo especializado diseñado para mejorar las características de los implantes regulares y aumentar la velocidad del proceso de oseointegración. Funciona haciendo que la superficie del implante sea más hidrofílica y eliminando contaminantes hidrocarbónicos que tienden a acumularse en la superficie con el tiempo. Esta hidrofílicidad mejorada fomenta la formación de hueso en la superficie del implante, lo que conduce a una mejor oseointegración y a un tiempo de recuperación reducido. Además, la aplicación de plasma estimula las células del tejido, aumentando la circulación sanguínea y facilitando la regeneración del tejido.
La ventaja más notable de esta tecnología es que no solo limpia la superficie del implante y optimiza el procedimiento de implantación, sino que también lo hace rápidamente, completando el proceso en solo 60 segundos. Esta eficiencia significa que se puede realizar de manera espontánea sin necesidad de una planificación previa. Además, la operación se lleva a cabo sin comprometer la integridad del embalaje del implante, asegurando su esterilidad y usabilidad inmediata.
Durante el proceso de activación de implantes de plasma, se eliminan de manera efectiva los contaminantes microscópicos a base de carbono, mientras que se aumenta la energía superficial, mejorando la humectabilidad y promoviendo interacciones de proteínas y células a nivel molecular. Además, el dispositivo puede procesar dos implantes simultáneamente mientras mantiene la barrera estéril, lo que agiliza aún más el procedimiento.
Indicaciones:
Mejorando las características de los implantes regulares
Optimización del proceso de oseointegración
Haciendo que las superficies de los implantes sean más hidrofílicas
Eliminación de contaminantes hidrocarburos
Estimulación de células tisulares con plasma
Acortando los tiempos de recuperación en general
Características y beneficios:
Mejora significativamente las características del implante para un rendimiento superior.
Mejora el proceso de oseointegración, asegurando una integración exitosa con el hueso.
Convierte la superficie del implante en altamente hidrofílica, optimizando las interacciones biológicas.
Elimina los contaminantes hidrocarburos, asegurando una superficie de implante limpia y prístina.
Estimula la formación ósea directamente en la superficie del implante, favoreciendo una curación más rápida.
Utiliza energía de plasma para activar las células del tejido, promoviendo la regeneración acelerada del tejido.
Operación rápida completada en solo 60 segundos, maximizando la eficiencia.
Ofrece flexibilidad para un uso espontáneo, eliminando la necesidad de una planificación meticulosa previa.
Mantiene la integridad del embalaje del implante
Asegura la preparación inmediata del implante sin comprometer la esterilidad.
Capaz de procesar dos implantes simultáneamente, optimizando tiempo y recursos.
Compatible con cualquier marca de implante con un envase de vial estéril claro.
Características técnicas:
Modelo: Plasma Activo
Tamaño: 150 x 354 x 267mm
Pantalla: LCD IPS táctil capacitivo
Capacidad: 2 viales de implantes de hasta 65 mm de altura / 28 mm de grosor
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